原標(biāo)題：一則好消息傳來！國產(chǎn)光刻機(jī)領(lǐng)域再次“破冰”，華為的助力來了

國產(chǎn)光刻機(jī)

眾所周知，國內(nèi)的芯片技術(shù)由于起步較晚且長期受到國外的技術(shù)封鎖和人才壟斷，導(dǎo)致一直處于落后于發(fā)達(dá)國家的水平，但是目前這種情況已經(jīng)得到了較大的改善。

芯片的生產(chǎn)過程是非常復(fù)雜的，從硅的采集，提純到晶圓的切割，光刻八步，再到刻蝕，芯片測試，最后封裝，每一個(gè)步驟對技術(shù)的要求都十分嚴(yán)苛，而光刻正是其中最為關(guān)鍵的一個(gè)步驟。

那么光刻是通過什么來實(shí)現(xiàn)的呢？那就是我們今天的重點(diǎn)，光刻機(jī)。光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)過程中必備的設(shè)備，可以說沒有光刻機(jī)就無法生產(chǎn)出芯片。

很多人都不知道光刻機(jī)具體是干嘛的，簡單來說，光刻機(jī)就是一種用紫外線在硅片、石墨烯等晶圓上刻集成電路的系統(tǒng)設(shè)備。一臺光光刻機(jī)的零配件高達(dá)5萬個(gè)，制造過程極其復(fù)雜，被譽(yù)為“現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花”！

我們國家光刻機(jī)研發(fā)起步晚，但是追趕速度很快。目前光刻機(jī)全球梯隊(duì)中，荷蘭的ASML公司是當(dāng)之無愧的世界第一，掌握著頂尖的光刻機(jī)制造技術(shù)；其次是日本的尼康等公司，雖然能生產(chǎn)出光刻機(jī)，但那也是中低端水平的。

再之后就是我們國內(nèi)的上海微電子裝備股份有限公司了，這也是目前國內(nèi)對光刻機(jī)研究最深的公司了。上周有媒體報(bào)道，上海微電子已經(jīng)可以交付28nm的光刻機(jī)了，但是最近有消息傳來，似乎不只是28nm那么簡單！

據(jù)最新消息稱，上海微電子預(yù)計(jì)在今年12月，將可能下降首臺采用ArF光源的可生產(chǎn)11nm的光刻機(jī)。如果采用華卓精科工作臺的套刻精度指標(biāo)優(yōu)于1.7nm，那么該光刻機(jī)將有生產(chǎn)7nm芯片的潛力！

也就是說，國內(nèi)在光刻機(jī)領(lǐng)域取得了巨大的突破，因?yàn)橹皣鴥?nèi)的技術(shù)一直停留在14nm技術(shù)上。雖然這次光刻機(jī)能生產(chǎn)7nm只是說有潛力，但是至少給了我們希望，至少給了科研工作者動力！

華為的助力

此次國內(nèi)光刻機(jī)領(lǐng)域傳出好消息也是華為的一個(gè)助力，因?yàn)槿A為目前正面臨著嚴(yán)峻的芯片封鎖限制。一旦緩沖期過去后，為華為芯片代工的臺積電可能就會瞬間翻臉，到時(shí)候華為的芯片供應(yīng)就成了巨大的問題。

因?yàn)槌伺_積電外，國內(nèi)最先進(jìn)的代工廠中芯國際的水平只達(dá)到了14nm，相比于臺積電的7nm甚至5nm水平來說。有著絕大的差距。而荷蘭ASML公司又不將高端光刻機(jī)賣給我們的話，這種情況就真的十分艱難了！

但是現(xiàn)在不一樣了，國產(chǎn)光科技如果不借助ASML公司級就能達(dá)到7nm技術(shù)的話，這將是一個(gè)絕大的飛躍。到時(shí)候華為也不用再擔(dān)心芯片供應(yīng)問題了，因?yàn)?nm的芯片對華為來說一定是足夠使用的，大不了先把5nm芯片放一放。

所以說，國產(chǎn)光刻機(jī)的突破不僅給國內(nèi)的科研領(lǐng)域帶來的信心，還給華為公司帶來的很大的助力，這或許能讓華為度過接下來的危機(jī)。

總結(jié)

國產(chǎn)光刻機(jī)的突破證明了我國科研工作者的智慧是無窮的，只要繼續(xù)努力，未來一定能再創(chuàng)輝煌。華為雖然目前遭受著嚴(yán)峻的考驗(yàn)，但是國內(nèi)也表達(dá)了對華為的支持，相信華為一定能挺過這次難關(guān)！

對于國內(nèi)光刻機(jī)的突破能否成為華為的助力，你們怎么看呢？